澤攸科技ZEM20Ultro臺式場發射電鏡并非簡單的設備小型化，其背后是多項技術的集成與優化，旨在使桌面設備也能承擔起對成像有要求的應用任務。理解其技術內涵，有助于用戶更好地發揮其效能。

ZEM20Ultro的核心技術優勢源于其冷場發射電子槍（CFEG）。與熱場發射（Schottky）槍相比，冷場發射無需加熱，其電子能量 spread 通常更窄，這意味著在相同條件下可能獲得更佳的圖像分辨率和更少的色差。當然，CFEG對真空度的要求也相應較高，其穩定性與系統的真空維持能力密切相關。ZEM20Ultro采用的全金屬高真空系統，正是為了滿足這一要求而設計，旨在減少碳氫化合物污染，維持電子槍的穩定發射。

在成像信號收集方面，儀器搭載的電子探測器性能對最終圖像質量有關鍵影響。其二次電子探測器對樣品表面微區形貌起伏敏感，能呈現豐富的立體細節；背散射電子探測器則對原子序數差異敏感，可用于快速區分不同化學成分的區域。兩種信號的綜合利用，為用戶提供了全面的樣品信息。

自動化與智能化操作是另一特點。五軸全自動樣品臺允許用戶通過軟件精確控制樣品移動、傾斜和旋轉，并能實現大面積的圖像拼接，方便進行低倍普查和高倍詳查。軟件系統集成了參數設置、圖像采集、圖像處理和基本測量功能，流程化的界面設計旨在降低操作復雜度，提升工作效率。

對于樣品適應性，較寬的加速電壓調節范圍（如可從低至0.5kV開始）使得用戶能夠根據樣品性質（如導電性、耐束流能力）靈活選擇條件。低電壓模式有助于觀察非導電樣品，減輕荷電效應，而高電壓模式則可能用于需要更高束流或更大穿透深度的場景。