在科技不斷進步的今天，微觀世界的奧秘吸引著眾多科研與工業檢測人員的探索。奧林巴斯激光共聚焦顯微鏡OLS5100，以其獨特的技術優勢，為微觀分析開啟了新的篇章。

產品細節：創新設計潮流

OLS5100采用優良的X - Y掃描振鏡技術，將采用電磁感應MEMS諧振掃描儀的X軸與采用Galvano掃描振鏡的Y軸相結合，讓X - Y掃描儀定位于相對物鏡瞳鏡共軛的位置，實現具有較低掃描軌跡失真和較小光學像差的X - Y掃描。這種創新設計，使得設備在掃描過程中能夠更準確地捕捉樣品的微觀信息，為后續的分析提供可靠的數據基礎。

產品性能：觀測與分析能力

OLS5100具備出色的三維成像能力，能夠捕捉任意表面形狀。其掃描算法既可提高數據質量又可提高速度，從而縮短掃描時間，簡化工作流程，提升生產力。設備支持非接觸、非破壞的觀察方式，僅需按下“Start（開始）"按鈕，用戶就能在亞微米級進行精細的形貌測量。對于需要觀察大型樣品的客戶，LEXT的長工作距離物鏡和選配的擴展機架使得系統能夠適用于高達210mm的樣本。

用材精良：保障設備的長期穩定運行

核心光學部件選用高透光率石英玻璃，配合多層鍍膜技術，減少激光能量損失與雜散光干擾。樣品臺臺面采用耐磨陶瓷材質，表面平整度誤差小于2μm，抗腐蝕且耐高溫。內部機械傳動部件采用精密滾珠絲杠與伺服電機，保障長期使用后的運動精度。這些優質的材料選擇，確保了設備在長時間的使用過程中能夠保持穩定的性能，為用戶提供可靠的觀測結果。

參數表：全面了解設備的關鍵指標

型號豐富：滿足不同應用場景

OLS5100提供多種型號，如OLS5100 - SAF、OLS5100 - LAF等。OLS5100 - SAF適用于對精度要求較高的半導體檢測等領域，其高分辨率和精準的測量能力能夠滿足芯片表面微結構的分析需求；OLS5100 - LAF則更適合大型機械零件的粗糙度分析，其較大的樣品容納空間和長工作距離物鏡，能夠方便地對大型樣品進行觀測和測量。

用途多元：科研與工業的雙重助力

在納米材料研發中，OLS5100可觀察納米顆粒的分散狀態，為材料的性能優化提供依據；在薄膜科學研究中，測量薄膜的厚度均勻性和表面粗糙度，幫助研究人員改進沉積工藝；在生物醫學領域，觀察細胞在支架表面的黏附形態，為組織工程和再生醫學的研究提供重要信息；在金屬材料研究中，分析金屬疲勞后的納米級裂紋擴展，為材料的壽命評估和改進提供數據支持。

使用說明：簡單便捷的操作體驗

使用前，將設備放置在穩定的工作環境中，連接電源與相關配件。打開設備電源，進行預熱與激光校準。樣品制備需符合共聚焦測量要求，確保樣品表面清潔、干燥。將樣品放置在樣品臺上，通過操作界面設置掃描參數，如掃描范圍、分辨率、掃描速度等。選擇合適的掃描模式，啟動掃描后，設備自動完成數據采集與處理。掃描完成后，利用配套軟件進行數據分析，計算所需參數，生成檢測報告。