ZEM20Pro的整體框架采用機械結構設計，具有較好的抗振動和抗磁干擾能力，為高倍數成像提供了穩定的環境。鏡筒內部光路部件加工精密，并采用特殊材料進行處理，旨在減少污染和電荷積累，維持電子束通路的潔凈與穩定。

樣品室是放置樣品的核心區域，其內部空間布局合理，部件材質選擇考慮了耐磨性和防腐蝕性。五軸優中心樣品臺采用精密的機械傳動結構，允許用戶進行平滑、精確的定位，其材質的穩定性保證了長時間使用后仍能保持定位精度。

清晰明了的技術參數是評估儀器能力和適用性的直接方式。以下匯集了澤攸ZEM20Pro臺式掃描電鏡的主要技術規格，供您全面了解其配置水平。

型號： ZEM20Pro

電子光學系統：

• 電子槍： 預對中高亮度鎢燈絲

  
  

• 加速電壓： 0.5, 1, 5, 10, 15, 20, 30 kV (軟件可選)

  
  

• 分辨率： 30 nm (30kV時)

  
  

• 放大倍數： 10x - 100,000x (連續可調)

  
  

• 束流范圍： 約 10?? ~ 10?11 A

  
  

樣品室與樣品臺：

• 樣品尺寸： 最大直徑 100 mm (高度依賴樣品臺)

  
  

• 樣品臺： 五軸優中心手動樣品臺

  
  

• 移動范圍： X/Y: 0-30mm, Z: 5-35mm, T: -10°~90°, R: 360°

  
  

• 樣品座： 標準樣品座設計，兼容性強

  
  

真空系統：

• 泵組配置： 分子泵 + 隔膜泵

  
  

• 抽真空時間： ≤ 3分鐘 (從大氣狀態到高真空)

  
  

• 真空度： 優于 6×10?3 Pa

  
  

探測系統：

• 標準探測器： 二次電子探測器、背散射電子探測器

  
  

• 圖像功能： 自動拼接、圖像測量、長時間錄像等

  
  

環境與電源：

• 電源要求： AC 220V ± 10%, 50/60 Hz

  
  

• 整機功耗： < 500 W

  
  

• 運行環境： 溫度15-30°C，濕度<80%

  
  

從參數表可以看出，ZEM20Pro在核心成像性能、樣品適應性、系統效率方面提供了均衡的配置。其加速電壓多檔可調，便于用戶針對不同性質的樣品（如導電性差的非金屬或生物樣品）選擇較低的電壓進行觀察，減少充放電效應。較快的抽真空速度提升了設備使用的連貫性。這些參數共同定義了ZEM20Pro是一臺適用于常規科研、質量控制和教育領域的實用型臺式掃描電鏡。