Sensofar科研版：納米材料研究的適配設計

產品簡介

Sensofar科研版：納米材料研究的適配設計
針對科研場景需求，Sensofar S neox 推出科研定制款，在基礎款之上強化了參數精度、功能擴展性與數據追溯能力。

產品型號：S neox

更新時間：2025-09-28

廠商性質：代理商

訪問量：41

產品咨詢 17701039158

產品分類

PRODUCT CLASSIFICATION

三維光學輪廓儀

布魯克 BEUKER白光干涉光學輪廓儀 Sensofar 儀光新型共聚焦白光干涉儀 SENSOFAR 3D光學輪廓儀 SENSOFAR共聚焦白光干涉儀 SENSOFAR結構光三維輪廓儀 SENSOFAR平面度測量干涉儀 ZYGO三維光學輪廓儀布魯克三維光學輪廓儀

查看全部產品

Sensofar：光學3D輪廓儀在深寬比樣品測量中的關鍵技術解析

揭秘EUV光刻核心技術：如何用納米級測量打造下一代芯片？?

納米級平整的奧秘：CMP技術如何塑造芯片的精密世界?

應用案例|微型 BUMPS 測量難題？SENSOFAR 3D 光學輪廓儀來解決！

詳細介紹在線留言

Sensofar科研版：納米材料研究的適配設計

針對科研場景需求，Sensofar S neox 推出科研定制款，在基礎款之上強化了參數精度、功能擴展性與數據追溯能力。

產品細節上，科研版保持模塊化設計，可加裝高溫、低溫樣品臺或電學測試附件，實現原位環境下的 3D 輪廓測量。操作界面除 15.6 英寸觸控屏外，支持外接專業繪圖板，方便在測量圖像上標注特征區域，直接完成數據分析標注。樣品臺新增 “手動微調" 模式，搭配精度 0.01mm 的刻度標尺，便于精準定位與重復實驗驗證。

性能方面，光源升級為高穩定性 LED 白光，光譜輸出波動 ±2% 以內，保障長期實驗的數據一致性。圖像傳感器采用 200 萬像素背照式 CMOS，量子效率在 450nm～650nm 波段達 70%，可捕捉低反射率納米材料的微弱信號。白光干涉模塊新增 “動態干涉條紋分析" 功能，縱向分辨率優化至 0.05nm，測量范圍覆蓋 0.5nm～10mm，能精準測量 10nm 金屬薄膜厚度與毫米級臺階高度差。

科研版還具備 “時間序列測量" 功能，可設置 10 秒 / 次至 1 小時 / 次的間隔，連續記錄材料在外界刺激下的結構變化，如納米涂層加熱收縮、水凝膠吸水膨脹等動態過程。軟件內置 “數據溯源" 功能，自動記錄光源強度、環境溫度等參數并與測量數據綁定，確保實驗可重復性。

科研版核心參數表

參數類別	規格參數
橫向分辨率	0.12μm（100x 物鏡）
縱向分辨率	0.05nm（白光干涉模式）
樣品臺行程	X/Y 軸 100mm，Z 軸 50mm
時間序列間隔	10 秒 / 次～1 小時 / 次
數據輸出格式	.sfc、.stl、.mat、.csv